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        1. Product Center

          產品中心

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          JK-FQ系(xi)列噴漆廢(fei)氣凈化處(chu)理設備(bei)

          簡要描述(shu):JK-FQ系(xi)列噴漆廢(fei)氣凈化處(chu)理設備(bei)
          采用(yong)機(ji)械(xie)分離(li)和(he)靜(jing)電凈化(hua)雙重(zhong)作用,含(han)油(you)煙廢(fei)氣在(zai)風(feng)機的作用下吸(xi)入(ru)管道(dao),進(jin)入(ru)油(you)煙(yan)凈(jing)化(hua)器的壹(yi)級凈化分(fen)離(li)分(fen)衡裝(zhuang)置,采(cai)用(yong)重(zhong)力慣(guan)性(xing)凈(jing)化技術(shu),對大(da)粒徑(jing)油(you)霧粒子(zi)進(jin)行物(wu)理分(fen)離(li)並(bing)且衡整(zheng)流(liu)。

          • 產品型號:
          • 廠(chang)商(shang)性質(zhi):生(sheng)產廠(chang)家
          • 更(geng)新(xin)時(shi)間(jian):2025-04-21
          • 訪(fang)  問  量(liang):3057

          詳細(xi)介(jie)紹

          品(pin)牌其他(ta)品(pin)牌處(chu)理廢(fei)氣種類生活(huo)廢(fei)氣
          分類其他(ta)工(gong)藝其他(ta)

          JK-FQ系(xi)列噴漆廢(fei)氣凈化處(chu)理設備(bei)

          設備(bei)特點(dian):

          單獨定(ding)制:由(you)工(gong)程師根(gen)據(ju)工(gong)藝*定制

          設備(bei)結構(gou):模塊(kuai)化拼(pin)裝(zhuang),便於安裝(zhuang)和(he)組合

          無耗(hao)材:設備(bei)凈化(hua)單元只需(xu)清(qing)洗

          :,

          運行安(an)全:陶(tao)瓷絕緣體、開(kai)門(men)自(zi)動(dong)斷(duan)電、過(guo)壓過(guo)流(liu)自(zi)保(bao)護,自動(dong)報(bao)警

           

          JK-FQ系(xi)列噴漆廢(fei)氣凈化處(chu)理設備(bei)

          工作原理:

          1、本產物(wu)操作特制的高能(neng)高臭(chou)氧UV紫(zi)外(wai)線光束(shu)照射(she)惡(e)臭(chou)氣(qi)體,裂解惡(e)臭(chou)氣(qi)體如:氨(an)、硫(liu)化氫(qing)、甲(jia)硫(liu)氫(qing)、甲(jia)硫(liu)醇、甲(jia)硫(liu)醚、二(er)甲(jia)二(er)硫(liu)、和(he)苯乙烯(xi),硫(liu)化物(wu)H2S、VOC類,苯、甲(jia)苯(ben)、的分子(zi)鏈結(jie)構,使(shi)有機(ji)或無機(ji)高分(fen)子(zi)惡臭(chou)化(hua)合物(wu)分(fen)子(zi)鏈,在(zai)高能(neng)紫(zi)外(wai)線光束(shu)照射(she)下,降(jiang)解轉釀成(cheng)低分(fen)子(zi)化合(he)物(wu),如(ru)CO2、H2O等(deng)。

          2、操作高能(neng)高臭(chou)氧UV紫(zi)外(wai)線光束(shu)分化(hua)空(kong)氣中的氧分(fen)子(zi)產生遊(you)離(li)氧,即(ji)活(huo)性氧,因(yin)遊(you)離(li)氧所(suo)攜正(zheng)負電子(zi)不服衡所(suo)以(yi)需與氧分(fen)子(zi)聯合(he),進(jin)而產生臭(chou)氧。 UV+O2→O-2BO*(活(huo)性氧)O2BO2→O3(臭(chou)氧),*臭(chou)氧對有(you)機(ji)物(wu)具(ju)有*的氧化(hua)浸(jin)染(ran),對惡(e)臭(chou)氣(qi)體及(ji)其它(ta)刺激(ji)性(xing)異(yi)味(wei)有立桿(gan)見影的拂(fu)拭(shi)下場。

          3、惡臭(chou)氣(qi)體操作排風(feng)設備(bei)輸(shu)進(jin)到本(ben)凈(jing)化(hua)設備(bei)後(hou),凈化(hua)設備(bei)運用(yong)高能(neng)UV紫(zi)外(wai)線光束(shu)及(ji)臭(chou)氧對惡(e)臭(chou)氣(qi)體進(jin)行協同(tong)分(fen)化氧化(hua)回(hui)響,使(shi)惡臭(chou)氣(qi)體物(wu)質(zhi)其降(jiang)解(jie)轉化成(cheng)低分(fen)子(zi)化合(he)物(wu)、水(shui)和(he)二氧化(hua)碳(tan),再經(jing)由(you)過(guo)程排風(feng)管道(dao)排(pai)出室外(wai)。

          4、操作高能(neng)UV光束(shu)裂解惡(e)臭(chou)氣(qi)體中細菌的分子(zi)鍵,損壞細菌的核(he)酸(suan)(DNA),再經(jing)由(you)過(guo)程臭(chou)氧進(jin)行氧化(hua)回(hui)響,*達(da)到脫(tuo)臭(chou)及(ji)殺滅細(xi)菌的方(fang)針.

          產品清(qing)洗:

          1、關(guan)閉(bi)設備(bei)的總電(dian)源(yuan),打(da)開(kai)設備(bei)下部(bu)的放(fang)油(you)閥(fa),放(fang)掉(diao)設備(bei)底部的積油(you)。松開(kai)檢(jian)修(xiu)門(men)的固定螺絲,打(da)開(kai)檢(jian)修(xiu)門(men)。

          2、清(qing)洗均(jun)流(liu)板(ban)。

          3、拆(chai)下電(dian)場清(qing)洗,拆(chai)出的電場可(ke)用(yong)高壓(ya)水(shui)槍清(qing)洗,也(ye)可用(yong)堿(jian)液浸(jin)泡。浸(jin)泡的堿液與熱水按1:25的重(zhong)量比(bi)混和(he)可達(da)到較好(hao)的效果(guo)。清(qing)洗完電(dian)場後(hou)必(bi)須(xu)清(qing)洗絕(jue)緣子(zi),用洗(xi)潔精清(qing)洗電(dian)場的4個絕緣子(zi)和(he)機箱裏表面(mian)的油汙(wu),再用(yong)清(qing)水認(ren)真(zhen)洗幹(gan)凈,然(ran)後(hou)務(wu)必(bi)要把(ba)水(shui)擦(ca)幹。絕緣子(zi)只能(neng)用(yong)洗潔精清(qing)洗,因(yin)為純堿之類的電解(jie)質(zhi)如(ru)果(guo)殘留在(zai)絕緣子(zi)表面(mian)會引(yin)起絕(jue)緣子(zi)表面(mian)爬電(dian),影響設備(bei)的正(zheng)常運行。每(mei)次清(qing)洗時(shi)如發(fa)現門(men)邊(bian)的密(mi)封(feng)條(tiao)破(po)損或密(mi)封(feng)性(xing)不好時(shi)請更(geng)換(huan)密(mi)封(feng)膠貼(tie)。

          4、電場陰(yin)極(ji)針的校(xiao)正(zheng)

          把(ba)電(dian)場按(an)照(zhao)其安(an)裝(zhuang)在(zai)設備(bei)裏的方(fang)向(xiang)擺好,用(yong)電極(ji)檢查器(qi)放(fang)在(zai)每1個陽(yang)極(ji)筒裏,如(ru)果極(ji)針的壹(yi)端剛(gang)好(hao)在(zai)檢查(zha)器(qi)中間(jian)的小孔(kong)中,說(shuo)明該(gai)極(ji)針沒(mei)有偏(pian)差(cha),否(fou)則就(jiu)要用電(dian)極(ji)校(xiao)正(zheng)器來(lai)校(xiao)正(zheng)。

          極(ji)針校(xiao)正(zheng)方(fang)法:觀察極(ji)針偏離(li)的方(fang)向(xiang),將(jiang)校(xiao)正(zheng)器適(shi)合的叉口套在(zai)極(ji)針上(shang),使(shi)之往(wang)偏(pian)離(li)方(fang)向(xiang)的反向(xiang)移(yi)動(dong),用(yong)檢查(zha)器(qi)檢(jian)查,反復校(xiao)正(zheng)直到極(ji)針在(zai)允(yun)許的偏差(cha)範(fan)圍(wei)之內(nei)。

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